根据ASML官方资料显示，极紫外光最早起源于20世纪70年代俄罗斯启动的多层反射镜工程，随后在20世纪80年代被日本学者木下雄弘拍摄出了极紫外光源图像。不久之后，美国以及荷兰的技术实验室开始对极紫外光进行相关研究。

美国在半导体领域一直握着不少关键牌，从设计软件到光刻设备光源，都牢牢控制着。这几年，从2019年开始，他们就通过各种出口管制来针对中国企业，尤其是华为那些高科技公司，试图卡住脖子不让发展。

中国大陆近期传出在极紫外光（EUV）曝光机领域取得关键进展，甚至被部分说法形容为中国版「曼哈顿计画」，引发外界关注是否可能动摇荷兰半导体设备龙头艾司摩尔（ASML）在全球EUV市场的主导地位。对此，ASML执行长富凯（Christophe ...

周五，半导体股全线走高，阿斯麦 (ASML.US)、美光科技 (MU.US)双双创下历史新高，现均涨超7%，英特尔 (INTC.US)涨超7%，AMD (AMD.US)、应用材料 (AMAT.US)涨超5%，台积电 (TSM.US)、迈威尔科技 (MRVL.US)涨超4.7%，博通 (AVGO.US)涨超3%，英伟达 (NVDA.US)涨3%。

ASML将与客户合作，力争在明年实现高NA机床的稳定运行，最大限度地减少停机时间。Fouquet预计，高NA光刻机将在2027年和2028年实现大规模量产。未来十年，ASML还将推出一项名为Hyper NA的更先进的技术。目前，该技术的研究工作已经启动。

2025年12月15日，英特尔宣布该公司已成功安装并完成验收测试ASML Twinscan EXE:5200B，这是业界首款配备0.55数值孔径（High-NA）投影光学系统、专为商用芯片生产设计的高数值孔径EUV光刻机。该设备将用于开发英特尔的14A制造工艺，这将是全球首个在其最关键层依赖High-NA EUV光刻机的工艺节点。这一里程碑标志着High-NA EUV光刻技术正从早期研发阶段稳步迈 ...

成立于1984年，ASML总部位于荷兰，是全球最大的光刻机制造商，总市值超4000亿美元，也是欧洲最大的科技公司之一。根据市调机构Khaveen ...

进入2025年，ASML接连放出重磅信号：如果荷兰政府无法保障其商业自主权，公司或将认真考虑把核心业务迁往他国。为此，荷兰甚至紧急启动了一项代号“贝多芬”的巨额补贴计划，试图用真金白银挽留。

作为ASML第二代High-NA EUV系统，EXE:5200B基于2023年交付英特尔的首台研发机型EXE:5000升级而来，核心突破在于其0.55数值孔径（NA）的投影光学系统。相较当前主流的Low-NA ...

大陆近年积极发展科技业，路透社披露，大陆已成功生产EUV（极紫外光曝光机）原型机，但距离量产或商用仍有一大段差距。美国科技媒体Tom's Hardware进一步指出，大陆正积极建造 EUV（极紫外光）光刻系统的原型机，预 ...

ASML是一家神奇的公司，它垄断了全球90%的光刻机市场份额，更是独家生产EUV光刻机，全球没有竞争对手。 但这样一家公司，理论上来讲，完全是香饽饽的，全球的晶圆厂都要找他，抢购它的光刻机，但他却也是为业绩担忧。 一方面是ASML自己说了不算，虽然他是 ...

报道援引消息人士称，这台由荷兰阿斯麦 (ASML)前工程师团队于2025年初制造的机器正在进行测试，并成功产生了极紫外线，但尚未生产出可用的芯片。据指这些工程师对ASML的极紫外光刻机 (EUV)进行了逆向工程。